在半導(dǎo)體工藝中，清洗的作用是去除晶圓上的污染物。污垢包括稱為顆粒的看不見的小污垢、人體污垢和皮屑中含有的有機物、汗液等油脂以及工廠使用的金屬造成的污染。

清潔裝置用溶劑或純水洗掉這些污垢。洗滌后，需要干燥。這稱為干燥/干燥，晶圓在從設(shè)備中取出之前必須干燥。

典型的清洗設(shè)備方法有超聲波清洗、噴淋清洗、刷洗、干洗、溶劑清洗等。

1、超聲波清洗設(shè)備

超聲波清洗設(shè)備是將被清洗物體放入化學(xué)溶液中，利用超聲波使內(nèi)部振動來清洗物體的設(shè)備。根據(jù)清洗對象選擇振動大小和頻率。

2、噴淋清洗設(shè)備

噴霧清洗設(shè)備是從噴嘴噴出氣體或液體來清洗目標(biāo)物體的方法。我們還有可用于清潔大型物體的手持式清潔設(shè)備。

3、毛刷清潔裝置

刷洗設(shè)備是用刷子清除污垢，然后使用溶液或噴淋清洗將其沖走的設(shè)備。由于使用刷子這種物理方法進行清潔，因此可以清潔難以去除的污垢。

4、干洗設(shè)備

干洗設(shè)備通過用UV（紫外線）照射物體產(chǎn)生臭氧和活性氧，使活性氧與污垢發(fā)生反應(yīng)來去除污垢。主要用于半導(dǎo)體和顯示器制造現(xiàn)場。

5、溶劑清洗設(shè)備

溶劑清洗設(shè)備利用溶劑的溶解力來溶解去除污垢。請小心，因為您可能使用非常危險的溶劑。